艾司摩爾 | 美容美髮公開資訊

艾司摩爾（ASMLHoldingN.V.）是在荷蘭費爾德霍芬的半導體設備製造商。公司同時在歐洲和美國NASDAQ上市。有從業員工28,000多名。在世界16個國家和地區有提供服務。

艾司摩爾 （英語：ASML Holding N.V.） ( Advanced Semiconductor Materials Lithography ) [註 1][1]是一間位於荷蘭恩荷芬的半導體裝置製造商。公司同時在歐洲和美國NASDAQ上市。全球員工有40,000多名。在世界16個國家和地區提供服務。艾司摩爾公司的主力產品是用於生產大規模積體電路的核心裝置曝光機。在世界同類產品中有90％的市佔率，在14奈米製程以下則有100％的市佔率，是現代積體電路不可或缺的重要供應商。

1984年從荷蘭著名電子製造商飛利浦獨立，當時辦公室尙在母公司的空地一旁的木屋內，僅有百餘人陸續加入，此後致力於當時正在發展的大規模積體電路裝置的研究和製造市場。艾司摩爾公司為半導體生產商提供曝光機及相關服務，根據莫耳定律不斷為提高單位面積整合度作貢獻。2007年已經能夠提供製造37nm線寬積體電路的曝光機。

製造大規模積體電路時要對半導體晶圓曝光3、40次。為在不降低品質的情況下減少曝光次數，艾司摩爾公司在曝光機上使用德國蔡司公司的光路系統，鏡頭使用螢石和石英製造，其反射鏡更是人類史上最平滑的光學鏡面[2]。曝光機是高附加值產品，一台當時龍頭尼康的新的曝光機動輒上億美元。而研發週期長，投入資金也相當巨大，使得單一家公司獨立研發開始出現困難。

艾司摩爾的成功轉變在於整合，當年眼前有這樣級別的業界對手，因此沒有走上完全自主研發的傳統路線，面對這樣的條件，選擇了做專業裝置不如以外包採購代替、用先進製造不如委託廠商協助代理的方法突破，同時在DUV節點上除了投資乾式顯影法，運用自己規模較小的優勢，轉向了林本堅在2002年提出，還在業界推廣的浸潤式顯影技術，並與台積電形成同盟，漸漸擊敗Nikon自家的技術，以全球多元分工的模式取得一席之地，其中比如極紫外曝光（EUV），也是透過產業聯盟進行合作，EUV技術由美國科技公司率先倡導，然而此時美國自己的曝光機產業已被日商曝光技術擊垮，艾司摩爾此時出現搶市，夥同多家美國研究機構、供應商聯合近20年潛心研發未知的新技術[3]，才終於讓實用級別的EUV裝置誕生，使得雖然總部和生產都在歐洲，但艾司摩爾卻像研究單位，只負責專...